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艾邁斯歐司朗180納米CMOS工藝線準備就緒,適用于傳感器及ASIC

來源:艾邁斯歐司朗| 發(fā)布日期:2023-10-31 09:20

艾邁斯歐司朗擁有三十年的專業(yè)經驗,為先進的模擬和混合信號技術提供代工生產和支持服務。目前,艾邁斯歐司朗已經將先進的 180 納米 CMOS 工藝技術整合到其全方位晶圓代工服務中。在提供先進高性能模擬/混合信號集成電路解決方案一站式服務的戰(zhàn)略中,這是艾邁斯歐司朗的最新舉措。除了晶圓制造和工藝定制,還提供:設計和工程支持、IP單元、封裝和 IC集成、晶圓針測和晶圓終測。

位于奧地利的艾邁斯歐司朗200mm工廠即將采用新型C18 180納米 CMOS技術進行生產,這種技術非常適合用于工業(yè)、醫(yī)療、汽車和消費品市場的傳感器和傳感器接口。在汽車和醫(yī)療應用的設計中,該技術也將大顯身手。艾邁斯歐司朗計劃下一個季度讓使用C18 180納米技術的產品實現量產。這一技術符合行業(yè)標準,源自全球領先的半導體合同制造商,確保了100%的電氣兼容性,保障備選供應能力。

全新高性能工藝:模擬和混合信號設備更進一步

隨著C18 180 納米 CMOS 工藝技術的引入,艾邁斯歐司朗將為客戶提供更多的模擬和混合信號設備生產選擇:

低漏電/高密度數字庫

擴展模擬晶圓驗收數據(WAT)參數

大量高質量設備

計劃引入1.8V/3.3V和1.8V/5.0V

雙柵氧化物和三阱選擇

3-6個金屬層

原生、隔離的 CMOS 晶體管

NPN 和 PNP 雙極晶體管

單個MIM(2fF/μm2)

多種電阻類型:多晶硅、1k高分辨率多晶硅、精密多晶硅

一次性可編程(OTP)存儲器

該工藝還支持光學涂層(適用于在晶圓上實現濾光片)和硅通孔(TSV)等先進生產技術,用以優(yōu)化敏感和關鍵信號的導線布局。艾邁斯歐司朗的核心目標是簡化這一工藝,讓其運行更為順暢。C18 180納米CMOS工藝帶有全套的工具和支持資源。艾邁斯歐司朗的工藝開發(fā)工具包(PDK)為芯片設計師提供即插即用的C18工具包,有助于提升模擬和混合信號的性能,并擁有高精度模擬模型,幫助客戶在更短時間內實現產品開發(fā)和交付。

最新版的hitkit設計平臺極大地提升了設計效率。它不僅配備了1.8V和3.3V的NMOS和PMOS設備(包括基板型、浮動型、低漏電型和高閾值電壓型多種選擇),還附帶了一系列全功能的無源設備,如多種電容器。此外,經過區(qū)域優(yōu)化的高密度和低功耗數字庫支持高達125k門電路/mm2的門電路密度。

升級后的數字和模擬I/O庫現包括多達6個金屬層,以及額定電壓可達4kV(按照人體模型)的ESD保護單元。添加了RAM和ROM內存生成服務,以及零掩碼級的加法器EEPROM IP模塊,使產品功能更加全面。

“基于Cadence的Virtuoso自定義IC技術,新版hitkit助力設計團隊加速產品上市。該hitkit為Spectre仿真平臺提供精確模型,為Quantus帶來提取功能,同時還為Calibre和PVS/Pegasus增加了驗證套件。其還搭載了基于SKILL的PCell技術,整合成一個全方位的設計平臺和經過嚴格驗證的芯片解決方案?!?/p>

C18 的多樣化應用

艾邁斯歐司朗的奧地利生產廠推出的C18 180 nm CMOS工藝面向全體客戶開放,涵蓋從客戶定制設計到特殊應用和開放市場的多種產品。使用該工藝進行代工的客戶將借助C18工藝來打造他們的先進混合信號產品。

除核心的晶圓制造能力外,艾邁斯歐司朗代工廠還提供設備組裝、專業(yè)工程、測試和鑒定等附加服務,以加速上市并減少開發(fā)壓力。新工藝的引入進一步強化了艾邁斯歐司朗對ASIC(專用集成電路)客戶的支持,使他們在混合信號設備方面具有明顯的競爭優(yōu)勢。通過提供一站式服務,艾邁斯歐司朗讓ASIC客戶能在競爭中輕松保持領先地位。

最后,艾邁斯歐司朗還計劃將這一先進工藝和其相關功能應用于開放市場的標準產品中,這些優(yōu)勢有望成為實現多種應用場景的關鍵因素。

C18 供應情況

可隨時在 C18 生產線上啟動原型設計和生產。C18生產線上的常規(guī)多產品晶圓(MPW)原型設計服務將于2023年11月開始。

除1.8V/3.3 V工藝版本外,2024年還將發(fā)布1.8V/5.0V版本。此后還將推出基于BCD(雙極-CMOS-DMOS)的高壓版本,最高可達70V。